光掩模市场，非常乐观

主要观点总结

本文介绍了eBeam Initiative论坛发布的第13届年度Luminaries调查结果。调查结果显示，半导体生态系统内的行业专家对光掩模市场的增长趋势持积极态度，并预测了未来的设备采购情况和相关技术的采用情况。调查还涉及了EUV光掩模保护膜、高数值孔径（NA）拼接技术、曲线反演光刻技术等内容。文章还提到了半导体行业的一些其他动态和推荐阅读内容。

关键观点总结

关键观点1: 调查概述及主要发现

文章介绍了eBeam Initiative发布的第13届年度Luminaries调查结果，显示半导体行业专家对光掩模市场的增长趋势持积极态度，预测了未来设备采购情况和相关技术的采用情况。

关键观点2: 关于EUV光掩模的内容

调查新增了关于EUV光掩模保护膜和高数值孔径（NA）拼接技术的问题，涉及到光掩模寿命、高NA EUV光掩模的拼接挑战等议题。

关键观点3: 关于其他技术的看法

文章提到了曲线反演光刻技术（ILT）在非EUV的193i工艺中的领先节点作用，以及光掩模车间的软件基础设施问题和对深度学习技术的采纳预测。

关键观点4: CEO的引用发言和行业观点总结

文章引用了eBeam Initiative的管理公司赞助商D2S的CEO藤村昭的发言，总结了整个半导体生态系统对合作论坛的支持，以及光掩模行业的当前地位和未来的发展趋势。