于欣格，Nature Materials！

主要观点总结

本文介绍了香港城市大学于欣格教授与雷党愿教授团队在金属氧化物（MO）薄膜制备领域的最新研究成果。该研究提出了一种全新的“等离激元打印”技术，能够在室温和环境气氛下快速制备高性能的溶液加工MO薄膜，显著提升了制备效率并降低了能耗。该研究为溶液法构建复杂、高性能、多层次的MO电子系统提供了全新路径，展现出在柔性电子和低成本电子制造中的广阔应用前景。

关键观点总结

关键观点1: 研究背景

金属氧化物（MO）是一类功能材料，因其电学与光学性能被广泛应用于新一代电子器件领域。然而，溶液法制备高质量MO薄膜面临诸多挑战，尤其在图案化和低温加工方面。

关键观点2: 研究亮点

团队提出了“等离激元打印”技术，实现了在室温和环境条件下快速制备高质量MO薄膜，并成功实现了三种高精度图案化流程，构建了高密度的全MO晶体管阵列及基本逻辑门电路。

关键观点3: 技术原理

该技术利用飞秒激光激发银纳米线产生局部等离激元加热，结合紫外光化学反应，将MO前驱体快速转化为高质量的薄膜。

关键观点4: 应用前景

该研究为溶液法构建复杂、高性能、多层次的MO电子系统提供了全新路径，展现出在柔性电子和低成本电子制造中的广阔应用前景。