改良型半加成工艺/mSAP｜单条DDR容量1TB不是梦｜芯片先进制造工艺

主要观点总结

改良型半加成工艺（mSAP）是印制电路板制造中的一种先进技术，主要用于实现超细线路。该工艺通过在基板表面铺设超薄种子铜，按电路图形电镀加厚所需铜，然后去除种子铜，以获取精细铜线。

关键观点总结

关键观点1: 工艺原理

在基板表面先铺设一层超薄种子铜，再按电路图形电镀加厚所需铜，最后去除种子铜，得到精细铜线。

关键观点2: 工艺特点

传统减成法受制于铜箔厚度，线宽/线距难以小于50μm，而mSAP工艺通过“薄铜+局部电镀”方式可将线宽/线距推进到15-30μm。该工艺避免了传统蚀刻中的侧蚀问题，导线截面更接近直壁，阻抗一致性好。

关键观点3: 工艺流程

涉及化学沉铜、薄铜处理、精细图形转移、电镀、差分蚀刻等多步骤，具体流程包括在介质材料上压合超薄铜箔、沉积种子铜、贴敷感光胶膜、图形转移、图形金属化、形成线路、闪蚀等。

关键观点4: 加工难点

超薄铜箔或镀层在加工中极易氧化或受损，需要无尘环境；对精密对位曝光制作微米级图形的要求严苛；电镀时铜离子向微细图形沉积易造成“镀凸”或不均，需要添加剂精确调控电流分布。

关键观点5: 应用领域

改良型半加成工艺可用于制造类载板PCB，满足智能手机和移动设备等对极细线路的需求。

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