原子级精度与强氧化结合：强氧化原子逐层外延技术拓展材料生长新空间 | NSR

主要观点总结

海归学者发起的公益学术平台分享了关于过渡金属氧化物材料的信息。针对这类材料的特性，如何设计和精准构筑是核心问题。文章介绍了强氧化原子逐层外延技术（GOALL-Epitaxy），该技术在复杂氧化物材料的生长上展示了巨大潜力。GOALL-Epitaxy结合了脉冲激光沉积（PLD）和分子束外延（OMBE）的优点，并避免了它们的局限性。该技术在强氧化环境中实现原子层级的精度生长，适用于需要极高氧化环境的复杂材料。南科大物理系的研究团队利用此技术展示了复杂镍氧化物和铜氧化物材料的生长结果，并发表了相关成果于《国家科学评论》。

关键观点总结

关键观点1: 金属氧化物的重要性及设计难点。

过渡金属氧化物具有丰富的电子强关联物相，对其设计和精准构筑是实现材料功能有效调控的关键。

关键观点2: 当前氧化物生长技术的特点与局限性。

包括OMBE和PLD在内的先进薄膜制备技术各有优势，但也存在氧化能力、元素化学计量控制等方面的局限性。

关键观点3: GOALL-Epitaxy技术的特点与优势。

GOALL-Epitaxy结合了PLD和OMBE的优点，大幅提升了氧化能力，适用于复杂材料的原子层级精度生长。该技术展示了在材料开发中的潜力，为探索新的高温超导体和其他强关联电子系统提供了更广阔的材料生长参数空间。

关键观点4: 南科大研究团队的成果及影响。

研究团队利用GOALL-Epitaxy技术展示了复杂镍氧化物和铜氧化物材料的生长结果，并发表了相关成果。这一成果为材料科学领域带来了新的可能性，为科学家提供了更广泛的材料探索空间。