2nm 良率排名出炉！

主要观点总结

文章主要描述了台积电、英特尔和三星在先进制程良率方面的竞争情况。截至2025年中期，台积电的N2制程良率领先，英特尔的Intel 18A制程正在追赶，而三星的SF2制程面临良率挑战。文章还提到了三家公司未来的制程发展计划和良率目标。

关键观点总结

关键观点1: 台积电N2制程的良率及优势

台积电N2制程良率达到65%，表现出卓越领先的优势。公司正在投入提升良率工作，目标是在2026年前将良率提升至接近75%的水平。工程师们正在解决技术挑战，如多重图案极紫外光曝光中的拼接与叠对控制，以及工具和制程层面的全面优化。

关键观点2: 英特尔Intel 18A制程的进步与未来规划

英特尔的Intel 18A制程良率为55%，在制程优化和缺陷减少方面取得积极成效。公司计划在未来通过持续的制程优化和缺陷减少措施，将良率推升至65%至75%的范围内。预计Panther Lake处理器将在2025年底前开始使用Intel 18A制程进行大规模生产。此外，英特尔还规划在2026年下半年推出Intel 18A-P的改良版，旨在减少图案错误和缺陷。

关键观点3: 三星SF2制程面临的挑战

三星的SF2制程面临严峻的良率挑战，产量仅为40%，远低于台积点和英特尔。报告将这一表现不佳归因于多重因素，包括晶圆级缺陷问题和EUV图案化能力的缓慢提升。三星需要在未来实现显著的技术突破和良率提升，才能迎头赶上台积电和英特尔。