道方图说 | 对现有设计抗辩若干问题的探讨

主要观点总结

本文介绍了专利侵权诉讼中的现有设计抗辩，包括法律依据、比对对象、提出时机、社交平台发布信息的公开性等方面的内容。

关键观点总结

关键观点1: 现有设计抗辩的法律依据

包括《专利法》的相关条款和北京市高级人民法院的《专利侵权判定指南》等。

关键观点2: 比对对象

现有设计抗辩的比对对象有涉案专利与一项现有设计比对和被诉侵权产品与一项现有设计比对两种观点。

关键观点3: 抗辩提出的时机

由于专利侵权案件的复杂性，现有设计抗辩的提出时机较为重要，涉及一审和二审的层级损失问题。

关键观点4: 社交平台发布信息的公开性

QQ空间相册和微信朋友圈发布的信息能否作为现有设计抗辩的证据，需要考虑其公开性和主要用途等因素。

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