国产纳米压印光刻设备交付！实现10nm线宽精度

主要观点总结

璞璘科技成功研发出首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，并交付国内特色工艺客户。该设备攻克了多项关键技术难题，具备高效、高精度的压印功能，可对应线宽＜10nm的纳米压印光刻工艺，并满足了模板拼接的需求。设备配备自主研发的技术控制系统和材料体系，为高精度步进纳米压印提供了可靠的材料保障。

关键观点总结

关键观点1: 璞璘科技研发出首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备。

这是我国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，攻克了多项关键技术难题。

关键观点2: 设备具备高效、高精度的压印功能。

该设备可以实现线宽＜10nm的纳米压印光刻工艺，并且满足模板拼接的需求，最小可实现20mm x 20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm（12in）晶圆级超大面积的模板。

关键观点3: 设备配备璞璘科技自研的技术控制系统和材料体系。

包括模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统以及喷墨打印材料匹配等，成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破。

关键观点4: 设备在压印技术方面取得显著进展。

通过创新材料配方与工艺调控，实现了纳米级的压印膜厚，平均残余层＜10nm，残余层变化＜2nm，压印结构深宽比＞7:1的技术指标。

关键观点5: 璞璘科技期待与国内精密对准领域企业开展深度合作。

共同打造具有国际竞争力的高端步进纳米压印设备，助力我国在下一代芯片制造装备领域实现自主可控。

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