冲破技术垄断，光刻胶小巨人，高深莫测！

主要观点总结

文章介绍了中国在光刻技术领域的重大突破和进展，以及相关企业如鼎龙股份、彤程新材等在光刻胶研发、生产方面的努力和成果。文章还分析了光刻技术在半导体制造中的重要性，以及国产科技自主化的趋势和必要性。

关键观点总结

关键观点1: 光刻技术迎来重大突破，国内企业加速国产替代。

2025年下半年，我国光刻技术进入黄金发展期，多家企业和研究机构在光刻胶和光刻机方面取得重要进展。

关键观点2: 鼎龙股份在KrF、ArF光刻胶领域取得显著进展。

鼎龙股份重点发力KrF、ArF光刻胶，避开了市场化程度较高的g线、i线光刻胶，产品国产替代空间更大。公司投资建设年产300吨KrF、ArF光刻胶产业化项目，已有产品具备批量供货能力。

关键观点3: 原材料自供对光刻胶企业至关重要。

原材料是光刻胶成本高地，鼎龙股份通过全链条自供可控战略，有望在光刻胶大规模量产阶段获得潜在的成本优势。

关键观点4: 鼎龙股份转型半导体材料，打破国外垄断。

鼎龙股份开始将业务重心放在半导体创新材料上，形成了CMP工艺材料和晶圆光刻胶、半导体显示材料以及半导体先进封装材料三个细分领域。公司在CMP工艺材料领域成长迅速，打破了国外垄断。