荷兰ASML把价值近30亿的第二代High-NA EUV光刻机搬进英特尔新晶圆厂

主要观点总结

文章介绍了荷兰ASML向英特尔新晶圆厂交付第二代High-NA EUV光刻机的事件，同时提到了中国厂商在光刻机领域的发展情况，包括上海微电子的28nm浸没式光刻机、长春光机所的0.55NA级物镜毛坯等。文章还提到了国家大基金的投资、LDP路线的进展以及成熟制程产能的情况。

关键观点总结

关键观点1: ASML向英特尔交付第二代High-NA EUV光刻机

荷兰ASML成功交付价值近30亿的第二代High-NA EUV光刻机给英特尔新晶圆厂，这标志着半导体制造技术的进一步升级。

关键观点2: 中国厂商在光刻机领域的发展

中国厂商在光刻机领域取得重要进展，如上海微电子的28nm浸没式光刻机良率达92%，长春光机所搞定0.55NA级物镜毛坯等。

关键观点3: 国家大基金的投资及LDP路线的进展

国家大基金三期3440亿分批到账，其中2000亿将投向先进封装和配套材料。同时，LDP路线在实验室中取得进展，3nm样片功耗低40%，成本砍65%。

关键观点4: 成熟制程产能的稳定性

成熟制程产能在全球占比中保持稳定，28nm及以上制程占全球30%，表明中国在半导体制造领域的实力不容忽视。

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